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尤其是光刻机中的光刻曝光技术是最为核心技术，被NSML自己牢牢把控着，技术受限，就如被别人卡着脖颈。
世界主流智能手机所使用的芯片技术主流为14nm工艺，只有世界顶级智能手机才能够使用7nm工艺，在性能方面，7nm工艺比14nm至少提高了25%，能耗降低了50%。
无论是刘琦，还是刘智，对于光刻机的最低标准便是1nm工艺，必须实现弯道超车，
同时，实验室针对光刻曝光技术已经完成了攻关。
前前后后算起来，机嗓嘉妮实验室只用了不到一周的时间，便获得了世界最难科技技术，完全打破了NSML公司的技术封锁，如果被世界各国知道的话，将对这家公司造成致命性打击，
就是因为对方拥有了核心技术，才造成每台光刻机的售价高达上亿美金，而且，你有钱还不一定能买得到，和背后涉及到了各种复杂的商业和政治背景。
“这是我们刚刚组装完毕的光刻机，虽然外观看起来比较粗糙，但实际上性能远超NSML公司的EUV设备。”
“这是刚刚制造的半成品芯片！所使用的的工艺正是1nm工艺技术，经过超级计算的模拟测试，其性能是主流芯片的500%，我们的技术至少领先NSML公司五年以上。”
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